Описание
Источники предназначается для питания постоянным током
магнетронов, используемых для напыления тонкоплёночных металлических и
иных покрытий толщиной до 10 мкм способом конденсации вещества в
вакууме с ионной бомбардировкой электропроводящей мишени материала.
Возможно также получение тонкоплёночных покрытий из соединений металла
с различными газами (оксиды, нитриды и др.). Также источник может быть
использован для питания источников ионов, заряда ёмкостных накопителей
энергии с любой ёмкостью.