Описание

Источники предназначается для питания постоянным током магнетронов, используемых для напыления тонкоплёночных металлических и иных покрытий толщиной до 10 мкм способом конденсации вещества в вакууме с ионной бомбардировкой электропроводящей мишени материала. Возможно также получение тонкоплёночных покрытий из соединений металла с различными газами (оксиды, нитриды и др.). Также источник может быть использован для питания источников ионов, заряда ёмкостных накопителей энергии с любой ёмкостью.